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台積電,三星5nm、3nm芯片,是制程騙局?事情沒這麼簡單
2024/02/13

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網上有一個觀點,那就是從28nm之后,摩爾定律其實已經死了。

從28nm工藝制程開始,芯片的納米工藝,已經不與晶體管密度,柵極長度、金屬半間距等直接相關了。

從28nm之后, 芯片工藝,就已經是等效法,即等效于多少納米,而不是實際多少納米。

具體來說,在28nm之前,芯片工藝其實是 指晶體管的柵極長度,專業詞叫Gate Length。,這個工藝每一代縮小30%,也就是變成原來的70%。

所以也就有了90nm、65nm、45nm這些,但到了 28nm之后,柵極長度,無法再每一代縮小30%了,于是芯片廠商們,也就不再用柵極長度來命名了工藝了。

各大晶圓廠,便開始在性能(Performance),功耗(Power),以及面積尺寸(Area)方面,進行不斷優化改進。

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就算 柵極長度,并沒有真正縮小30%,但只要較上一代在某一方面進步了30%,就認為這是新一代的工藝。

所以一直以來,很多人都說台積電、三星的芯片工藝,在28nm之后,就是一場制程騙局,晶圓廠負責編,芯片廠捏著鼻子也要認。

但事實上,事情真沒這麼簡單, 線寬工藝的停滯,或者陷入物理極限,并不代表摩爾定律的衰亡,也并不代表制程就是騙局。

最近這10多年間,雖然在所謂的線寬或柵極上沒有長足的進步,但大家都在采用先進的架構設計,來立體化堆疊晶體管,并最終轉化為「等效制程」的工藝。

這些一樣需要先進的技術,需要各大晶圓廠,不斷的提升工藝,改進技術,其難度,并不比縮小線寬或柵極長度低。

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舉例說明,7nm比10nm更先進,哪怕它們是一種工藝制程的,而5nm也比7nm先進,3nm又比5nm芯片,這是很明顯的事情,我們不能單純的看柵格有沒有縮小。

借助架構和工藝的提升,來實現更小制程的效果,依然是一件非常難,且復雜的事情,沒有積累,先進設備、高超的技術,依然不可能實現。

同樣的,很多人覺得制程工藝沒進步,我們就能夠很快的追上台積電、三星了,這也是片面的看法,實際上沒有想象的容易,對手們不會停下來等待中國芯片制造的追趕,我們也別幻想別人無法進步了,「丟掉幻想,準備戰斗」,才是我們真正要干的事情。

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